中国在发展芯片生产自主自足时,面对西方制裁的压力下,一方面也列举半导体产业面临的挑战,但据最近中国科协(CAST)列出的半导体产业挑战项目中,芯片设备制造曝光机显然不在列举项目,显示中国根本无力制造先进曝光机,另外也是出于政治考量。 根据DigiTimes Asia报道,中国排除研发曝光机更可能是出于政治考虑,希望淡化美国制裁对中国本土芯片制造的影响。 这并非中国首次忽视曝光机技术,习近平曾告诉荷兰首相,中国不需要先进的曝光制造商ASML来推进中国自己的技术。目前,上海微电子装备集团(SMEE)与北方华创科技计划于2024年4月首次开发曝光机。 tomshardware报道指出,事实上,中国整个半导体芯片制造工具国产率仅为20%左右,而中国产的曝光设备比例不足1%,相较之下,ASML的全球市场占为93%。 极紫外光EUV曝光机对于建构下一代芯片至关重要,即使有公司可能在美国制裁前已获得这类设备,但仍然需要持续的维护和服务才能持续使用。除非中国在曝光机产业取得重大突破,否则这可能是中国科技公司生产高阶芯片必须克服的最大障碍。 报道指出,即使中国相关组织将一项或多项技术排除在半导体挑战清单之外,也无法改变中国半导体产业面临挑战的现实。中国需要数年,甚至数十年的研发才能赶上主流曝光机制造商。 因此,除非中国能够神奇地制造出与ASML最新的高数值孔径EUV相匹配的曝光机,否则将曝光机工具排除在中国半导体行业面临的挑战清单中,这可能是一种政治妥协下不得不的结果。 |
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